Monografie

Herstellung und elektronische Eigenschaften hydrogenierter amorpher Siliziumfilme, abgeschieden unter extremen Depositionsbedingungen

Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Marburg, Univ., Diss., 1997
Identifier
983848483

Thema
Silicium ; Amorpher Halbleiter ; Wasserstoff ; Dünne Schicht ; PECVD-Verfahren ; Hochschulschrift

Beteiligte Personen und Organisationen

URN
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
26.01.2023, 13:56 MEZ

Objekttyp


  • Monografie

Beteiligte


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