Monografie
Herstellung, Charakterisierung und Bewertung leitfähiger Diffusionsbarrieren auf Basis von Tantal, Titan und Wolfram für die Kupfermetallisierung von Siliciumschaltkreisen
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Zugl.: Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 2003
- ISBN
-
978-3-8322-2532-2
- Identifier
-
972278400
Thema
Siliciumhalbleiter ; Metallisieren ; Nitride ; Magnetronsputtern ; Diffusion; Diffusionsbarriere; Metallschicht / Dünne Schicht; PVD-Verfahren; Silicium; Sperrstrom; Tantal; Tantalnitride; Titan; Titannitrid; Diode; Festkörperreaktion; Grenzflächenreaktion; Halbleitertechnologie; Hume-Rothery-Phase; Kupfer; Metallisierungsschicht; Metallschicht; Hochschulschrift
Beteiligte Personen und Organisationen
- URN
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
26.01.2023, 13:55 MEZ
Objekttyp
- Monografie
Beteiligte
Ähnliche Objekte (12)
Herstellung, Charakterisierung und Bewertung leitfähiger Diffusionsbarrieren auf Basis von Tantal, Titan und Wolfram für die Kupfermetallisierung von Siliciumschaltkreisen
Beeinflussung und Charakterisierung von Schichteigenschaften metallisierter Textilien
Dünne tantalbasierte Diffusionsbarrieren für die Kupfer-Leitbahntechnologie : thermische Stabilität, Ausfallmechanismen und Einfluss auf die Mikrostruktur des Metallisierungsmaterials
On the growth and mechanical properties of non-oxide perovskites and the spontaneous growth of soft metal nanowhiskers
Optical Properties of Sputtered Tantalum Nitride Films Determined by Spectroscopic Ellipsometry
Microstructure and grain boundary evolution in titanium thin films
Beschichtung von textilen Flächen mit den PVD-Technologien reaktives Vakuumbogen-Verdampfen und reaktives Magnetron-Sputtern : PVD-Beschichtung von textilen Flächen
On the growth and mechanical properties of non-oxide perovskites and the spontaneous growth of soft metal nanowhiskers
Metallisierung von Folien auf der Basis von Polyetheretherketon (PEEK) für flexible Schaltungsträger
Aluminum-based PVD rear-side metallization for front-junction nPERT silicon solar cells
Besonderheiten der mechanischen Eigenschaften und der Mikrostruktur dünner, polykristalliner Kupferschichten
Aluminum-based PVD rear-side metallization for front-junction nPERT silicon solar cells
Herstellung, Charakterisierung und Bewertung leitfähiger Diffusionsbarrieren auf Basis von Tantal, Titan und Wolfram für die Kupfermetallisierung von Siliciumschaltkreisen
Beeinflussung und Charakterisierung von Schichteigenschaften metallisierter Textilien
Dünne tantalbasierte Diffusionsbarrieren für die Kupfer-Leitbahntechnologie : thermische Stabilität, Ausfallmechanismen und Einfluss auf die Mikrostruktur des Metallisierungsmaterials
On the growth and mechanical properties of non-oxide perovskites and the spontaneous growth of soft metal nanowhiskers
Optical Properties of Sputtered Tantalum Nitride Films Determined by Spectroscopic Ellipsometry
Microstructure and grain boundary evolution in titanium thin films
Beschichtung von textilen Flächen mit den PVD-Technologien reaktives Vakuumbogen-Verdampfen und reaktives Magnetron-Sputtern : PVD-Beschichtung von textilen Flächen
On the growth and mechanical properties of non-oxide perovskites and the spontaneous growth of soft metal nanowhiskers
Metallisierung von Folien auf der Basis von Polyetheretherketon (PEEK) für flexible Schaltungsträger
Aluminum-based PVD rear-side metallization for front-junction nPERT silicon solar cells
Besonderheiten der mechanischen Eigenschaften und der Mikrostruktur dünner, polykristalliner Kupferschichten
Aluminum-based PVD rear-side metallization for front-junction nPERT silicon solar cells
Herstellung, Charakterisierung und Bewertung leitfähiger Diffusionsbarrieren auf Basis von Tantal, Titan und Wolfram für die Kupfermetallisierung von Siliciumschaltkreisen
Beeinflussung und Charakterisierung von Schichteigenschaften metallisierter Textilien
Dünne tantalbasierte Diffusionsbarrieren für die Kupfer-Leitbahntechnologie : thermische Stabilität, Ausfallmechanismen und Einfluss auf die Mikrostruktur des Metallisierungsmaterials
On the growth and mechanical properties of non-oxide perovskites and the spontaneous growth of soft metal nanowhiskers
Optical Properties of Sputtered Tantalum Nitride Films Determined by Spectroscopic Ellipsometry
Microstructure and grain boundary evolution in titanium thin films
Beschichtung von textilen Flächen mit den PVD-Technologien reaktives Vakuumbogen-Verdampfen und reaktives Magnetron-Sputtern : PVD-Beschichtung von textilen Flächen
On the growth and mechanical properties of non-oxide perovskites and the spontaneous growth of soft metal nanowhiskers
Metallisierung von Folien auf der Basis von Polyetheretherketon (PEEK) für flexible Schaltungsträger
Aluminum-based PVD rear-side metallization for front-junction nPERT silicon solar cells
Besonderheiten der mechanischen Eigenschaften und der Mikrostruktur dünner, polykristalliner Kupferschichten