Monografie
Investigations of perspective materials for aggressively scaled gate stacks and contact structures of MOS devices
- Sprache
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Englisch
- Anmerkungen
-
Cottbus, Brandenburgische Techn. Univ., Diss., 2002
- Identifier
-
968309127
Thema
Praseodymoxide ; MOS ; Wolframnitride ; Silicium ; Kristallfläche ; Cobaltsilicide ; Dünne Schicht ; Hochschulschrift; Online-Publikation
Beteiligte Personen und Organisationen
- URN
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
26.01.2023, 13:57 MEZ
Objekttyp
- Monografie
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