Monografie

Investigations of perspective materials for aggressively scaled gate stacks and contact structures of MOS devices

Language
Englisch
Notes
Cottbus, Brandenburgische Techn. Univ., Diss., 2002
Identifier
968309127

Subject
Praseodymoxide ; MOS ; Wolframnitride ; Silicium ; Kristallfläche ; Cobaltsilicide ; Dünne Schicht ; Hochschulschrift; Online-Publikation

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Last update
26.01.2023, 1:57 PM CET

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