Hochschulschrift
Structural and optical properties of PECVD grown silicon nanocrystals embedded in SiOxNy matrix : = Strukturelle und Optische Eigenschaften mittels PECVD hergestellter Silicium Nanokristalle
- Weitere Titel
-
Strukturelle und Optische Eigenschaften mittels PECVD hergestellter Silicium Nanokristalle
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
Universität Freiburg, Dissertation, 2013
- Klassifikation
-
Physik
- Schlagwort
-
PECVD-Verfahren
Nanokristall
Oxinitride
Online-Ressource
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Freiburg
- (wer)
-
Universität
- (wann)
-
2013
- Urheber
- Beteiligte Personen und Organisationen
- DOI
-
10.6094/UNIFR/9148
- URN
-
urn:nbn:de:bsz:25-opus-91480
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
14.08.2025, 10:51 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Hartel, Andreas Markus
- Zacharias, Margit
- Universität
Entstanden
- 2013
Ähnliche Objekte (12)
PECVD-Prozesse mittels Hohlkathodenglimmentladung
Model of PE-CVD apparatus
PECVD Prozessüberwachung - wiederholbare Nutzung technischer Plasmen
Abscheidung und Charakterisierung von PECVD-Aluminiumoxidschichten
Niedertemperatur-Deposition von Siliziumdioxid mittels Remote-PECVD
Untersuchungen zur PECVD in Down-Stream-Reaktoren
Eigenschaften und Anwendungen von Niedertemperatur-PECVD-Siliziumnitrid
Untersuchungen an PVD-PECVD-Kombinationsschichtsystemen auf Stahl
Herstellung und Charakterisierung von PECVD abgeschiedenem mikrokristallinem Silizium
Passivation of Si Surfaces by PECVD Aluminum Oxide
Untersuchungen zum PECVD-Prozess unter dem Aspekt der Einzelscheibenverarbeitung
PECVD SixCy as Barrier Layer Against Aluminum in Solar Cells With poly-Si/SiOx Passivating Contacts
PECVD-Prozesse mittels Hohlkathodenglimmentladung
Model of PE-CVD apparatus
PECVD Prozessüberwachung - wiederholbare Nutzung technischer Plasmen
Abscheidung und Charakterisierung von PECVD-Aluminiumoxidschichten
Niedertemperatur-Deposition von Siliziumdioxid mittels Remote-PECVD
Untersuchungen zur PECVD in Down-Stream-Reaktoren
Eigenschaften und Anwendungen von Niedertemperatur-PECVD-Siliziumnitrid
Untersuchungen an PVD-PECVD-Kombinationsschichtsystemen auf Stahl
Herstellung und Charakterisierung von PECVD abgeschiedenem mikrokristallinem Silizium
Passivation of Si Surfaces by PECVD Aluminum Oxide
Untersuchungen zum PECVD-Prozess unter dem Aspekt der Einzelscheibenverarbeitung
PECVD SixCy as Barrier Layer Against Aluminum in Solar Cells With poly-Si/SiOx Passivating Contacts
PECVD-Prozesse mittels Hohlkathodenglimmentladung
Model of PE-CVD apparatus
PECVD Prozessüberwachung - wiederholbare Nutzung technischer Plasmen
Abscheidung und Charakterisierung von PECVD-Aluminiumoxidschichten
Niedertemperatur-Deposition von Siliziumdioxid mittels Remote-PECVD
Untersuchungen zur PECVD in Down-Stream-Reaktoren
Eigenschaften und Anwendungen von Niedertemperatur-PECVD-Siliziumnitrid
Untersuchungen an PVD-PECVD-Kombinationsschichtsystemen auf Stahl
Herstellung und Charakterisierung von PECVD abgeschiedenem mikrokristallinem Silizium
Passivation of Si Surfaces by PECVD Aluminum Oxide
Untersuchungen zum PECVD-Prozess unter dem Aspekt der Einzelscheibenverarbeitung