Hochschulschrift
Eigenschaften und Anwendungen von Niedertemperatur-PECVD-Siliziumnitrid
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783896854452
3896854453
- Dimensions
-
21 cm
- Extent
-
143 S.
- Edition
-
1. Aufl.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
graph. Darst.
Zugl.: Berlin, Techn. Univ., Diss., 1997
- Keyword
-
Siliciumnitrid
Dünne Schicht
PECVD-Verfahren
- Event
-
Veröffentlichung
- (where)
-
Berlin
- (who)
-
Wiss.-und-Technik-Verl.
- (when)
-
1997
- Creator
- Table of contents
- Rights
-
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- Last update
-
11.06.2025, 1:54 PM CEST
Data provider
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
- Arps, Michael
- Wiss.-und-Technik-Verl.
Time of origin
- 1997
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