Hochschulschrift
Eigenschaften und Anwendungen von Niedertemperatur-PECVD-Siliziumnitrid
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783896854452
3896854453
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
143 S.
- Ausgabe
-
1. Aufl.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
graph. Darst.
Zugl.: Berlin, Techn. Univ., Diss., 1997
- Schlagwort
-
Siliciumnitrid
Dünne Schicht
PECVD-Verfahren
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Berlin
- (wer)
-
Wiss.-und-Technik-Verl.
- (wann)
-
1997
- Urheber
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:54 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Arps, Michael
- Wiss.-und-Technik-Verl.
Entstanden
- 1997
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