Hochschulschrift
Auswirkungen einer Plasmabehandlung auf die Eigenschaften des Niedertemperatur-Waferbondens monokristalliner Siliziumoberflächen
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
30 cm
- Umfang
-
VII, 107, IX S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph Darst.
Halle, Wittenberg, Univ., Diss., 2001
- Schlagwort
-
Silicium
Kristallfläche
Oberflächenbehandlung
Plasmatechnik
Silicium
Wafer
Bonden
Oberflächeneigenschaft
- Urheber
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:39 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
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