Hochschulschrift | Online-Publikation

Auswirkungen einer Plasmabehandlung auf die Eigenschaften des Niedertemperatur-Waferbondens monokristalliner Siliziumoberflächen

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Language
Deutsch
Notes
Halle (Saale), Univ., Diss., 2001

Keyword
Silicium
Kristallfläche
Oberflächenbehandlung
Plasmatechnik
Silicium
Wafer
Bonden
Oberflächeneigenschaft

Creator

URN
urn:nbn:de:gbv:3-000002641
Rights
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
15.08.2025, 7:30 AM CEST

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  • Hochschulschrift
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