Magnetron Sputter Deposition of Amorphous Silicon–SiO 2 Quantized Nanolaminates
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Erschienen in
-
Magnetron Sputter Deposition of Amorphous Silicon–SiO 2 Quantized Nanolaminates ; day:22 ; month:07 ; year:2024 ; extent:8
Advanced photonics research ; (22.07.2024) (gesamt 8)
- Urheber
-
Thöny, Silvia Schwyn
Bärtschi, Manuel
Batzer, Marietta
Baselgia, Manuel
Gmünder, Raphael
Sharma, Amit
Vermeij, Tijmen
Maeder, Xavier
Waldner, Stephan
- DOI
-
10.1002/adpr.202400057
- URN
-
urn:nbn:de:101:1-2407231419311.378208096820
- Rechteinformation
-
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
14.08.2025, 10:53 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Beteiligte
- Thöny, Silvia Schwyn
- Bärtschi, Manuel
- Batzer, Marietta
- Baselgia, Manuel
- Gmünder, Raphael
- Sharma, Amit
- Vermeij, Tijmen
- Maeder, Xavier
- Waldner, Stephan
Ähnliche Objekte (12)
Magnetron sputter deposition of Ta2O5-SiO2 quantized nanolaminates
Bias-plasma Assisted RF Magnetron Sputter Deposition of Hydrogen-less Amorphous Silicon
Magnetron sputter deposition of nanostructured AlN thin films
Control of effective cooling rate upon magnetron sputter deposition of glassy Ge15Te85
Anisotropic Ti x Sn1- x O2 nanostructures prepared by magnetron sputter deposition
Reactive sputter deposition
Magnetron-Sputter-Anlage am Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Numerische Modelle zur Prozesssimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren
Magnetron-Sputter-Anlage am Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Magnetron-Sputter-Anlage am Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Magnetron-Sputter-Anlage am Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Oxidation Resistance of Magnetron Sputter Deposited ß-FeAl+Zr Coatings
Magnetron sputter deposition of Ta2O5-SiO2 quantized nanolaminates
Bias-plasma Assisted RF Magnetron Sputter Deposition of Hydrogen-less Amorphous Silicon
Magnetron sputter deposition of nanostructured AlN thin films
Control of effective cooling rate upon magnetron sputter deposition of glassy Ge15Te85
Anisotropic Ti x Sn1- x O2 nanostructures prepared by magnetron sputter deposition
Reactive sputter deposition
Magnetron-Sputter-Anlage am Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Numerische Modelle zur Prozesssimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren
Magnetron-Sputter-Anlage am Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Magnetron-Sputter-Anlage am Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Magnetron-Sputter-Anlage am Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Oxidation Resistance of Magnetron Sputter Deposited ß-FeAl+Zr Coatings
Magnetron sputter deposition of Ta2O5-SiO2 quantized nanolaminates
Bias-plasma Assisted RF Magnetron Sputter Deposition of Hydrogen-less Amorphous Silicon
Magnetron sputter deposition of nanostructured AlN thin films
Control of effective cooling rate upon magnetron sputter deposition of glassy Ge15Te85
Anisotropic Ti x Sn1- x O2 nanostructures prepared by magnetron sputter deposition
Reactive sputter deposition
Magnetron-Sputter-Anlage am Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Numerische Modelle zur Prozesssimulation und Magnetfeldberechnung im Magnetron-Sputter-Ion-Plating-Physical-Vapour-Deposition-Verfahren
Magnetron-Sputter-Anlage am Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Magnetron-Sputter-Anlage am Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Magnetron-Sputter-Anlage am Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)