Bias-plasma Assisted RF Magnetron Sputter Deposition of Hydrogen-less Amorphous Silicon

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch

Erschienen in
In: Energy Procedia ; 84 (2015). - S. 105-109. - eISSN 1876-6102

Klassifikation
Physik

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Konstanz
(wer)
Bibliothek der Universität Konstanz
(wann)
2016
Urheber
Gerke, Sebastian
Hahn, Giso
Job, Reinhart
Terheiden, Barbara

URN
urn:nbn:de:bsz:352-0-327966
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
15.06.2025, 05:06 MESZ

Datenpartner

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Beteiligte

  • Gerke, Sebastian
  • Hahn, Giso
  • Job, Reinhart
  • Terheiden, Barbara
  • Bibliothek der Universität Konstanz

Entstanden

  • 2016

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