Hochschulschrift | Online-Publikation

Micro-Raman investigation of mechanical stress in Si device structures and phonons in SiGe

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Language
Englisch
Notes
Cottbus, Brandenburgische Techn. Univ, Diss., 2000

Keyword
Siliciumbauelement
Mechanische Spannung
Raman-Spektroskopie
Silicium
Germanium
Mischkristall
Phonon
Raman-Spektroskopie

Creator

URN
urn:nbn:de:kobv:co1-000000031
Rights
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
25.03.2025, 1:46 PM CET

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  • Hochschulschrift
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