Hochschulschrift

Darstellung und Eigenschaften von Si-Schichten auf polykristallinen Si-Substraten abgeschieden mittels Flüssigphasenepitaxie

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
21 cm
Umfang
135 S.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Clausthal, Techn. Univ., Diss., 1996

Schlagwort
Silicium
Polykristall
Silicium
Dünne Schicht
Flüssigphasenepitaxie

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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 13:48 MESZ

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Objekttyp

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