Hochschulschrift
The Application of Atomic Force Microscopy in Semiconductor Technology - Towards High-K Gate Dielectric Integration
- Weitere Titel
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Anwendung der Rasterkraftmikroskopie in der Halbleitertechnololgie - Zur Integration dielektrischer Materialien hoher Permittivität
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
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Online-Ressource
- Sprache
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Englisch
- Anmerkungen
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Darmstadt, Technische Universität Darmstadt, Dissertation, 2011
- Klassifikation
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Elektrotechnik, Elektronik
- Ereignis
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Veröffentlichung
- (wo)
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Darmstadt
- (wer)
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Universitäts- und Landesbibliothek Darmstadt
- (wann)
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2012
- Urheber
- Beteiligte Personen und Organisationen
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Schwalke, Udo
Riechert, Henning
- URN
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urn:nbn:de:tuda-tuprints-29314
- Rechteinformation
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Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
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25.03.2025, 13:48 MEZ
Datenpartner
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Stefanov, Yordan
- Schwalke, Udo
- Riechert, Henning
- Universitäts- und Landesbibliothek Darmstadt
Entstanden
- 2012