Hochschulschrift

Die Charakterisierung vergrabener Schichten nach umdotierender Ionenimplantation in Silizium im Hinblick auf das "Buried channel charge coupled device"

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
30 cm
Umfang
261 S.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
graph. Darst.
Zugl.: Berlin, Techn. Univ., Diss.

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Berlin-Wannsee
(wer)
Hahn-Meitner-Inst. für Kernforschung
(wann)
1981
Urheber
Bach, Heinz-Gunter

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 13:51 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

  • Bach, Heinz-Gunter
  • Hahn-Meitner-Inst. für Kernforschung

Entstanden

  • 1981

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