Hochschulschrift
Die Rückstreumethode als Verfahren zur Bestimmung des Profiles von Strahlenschäden in durch Ionenimplantation dotiertem Silizium
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Dimensions
-
8°
- Extent
-
II, 103 S.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
München, Techn. Univ., Fak. f. Maschinenwesen u. Elektrotechnik, Diss. 1972.
- Creator
-
Schmid, Klaus
- Table of contents
- Rights
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
11.06.2025, 1:50 PM CEST
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
- Schmid, Klaus
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