Wissensbasierte Prozessentwicklung von PVD-Sputteranlagen zur kontrollierten Abscheidung keramischer Schichten
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Bochum, Ruhr-Universität Bochum, Dissertation, 2020
- Schlagwort
-
Plasmadiagnostik
Hochleistungsimpulsmagnetronsputtern
Plasmaeinschluss
Prozessentwicklung
Dünne Schicht
Plasma-Wand-Wechselwirkung
Prozessentwicklung (Technik)
Niederdruckplasma
Plasmadiagnostik
Dünne Schicht
Plasma-Wand-Wechselwirkung
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Bochum
- (wer)
-
Ruhr-Universität Bochum
- (wann)
-
2020
- Urheber
- Beteiligte Personen und Organisationen
-
Awakowicz, Peter
Schneider, Jochen M.
Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
- URN
-
urn:nbn:de:hbz:294-75051
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
25.03.2025, 13:55 MEZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Beteiligte
- Ries, Stefan
- Awakowicz, Peter
- Schneider, Jochen M.
- Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
- Ruhr-Universität Bochum
Entstanden
- 2020
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