Hochschulschrift

Entwicklung und Anwendung von kombinatorischen Methoden und Mikrosensoren zur Messung mechanischer Schichtspannungen und der Schichttemperatur bei reaktiven Plasmabeschichtungsprozessen

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Bochum, Ruhr-Universität Bochum, Dissertation, 2016

Klassifikation
Industrielle und handwerkliche Fertigung
Schlagwort
Plasmaabscheidung
Temperatur
Messung
Mikrosensor
Elektrische Spannung
Dünne Schicht
Beschichten
Schichtwachstum
Sputtern
Kathode
Plasma
Target
Kombinatorik
Sensor
Plasma
Schichtspannung
Hochleistungsimpulsmagnetronsputtern

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Bochum
(wer)
Ruhr-Universität Bochum
(wann)
2016
Urheber
Beteiligte Personen und Organisationen
Ludwig, Alfred
Awakowicz, Peter

URN
urn:nbn:de:hbz:294-49865
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
14.08.2025, 11:00 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

Entstanden

  • 2016

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