Hochschulschrift

Gateisolatoren für MOS-Feldeffekttransistoren

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
21 cm
Umfang
VIII, 162 S.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
München, Univ. der Bundeswehr, Diss., 2000

Schlagwort
Gate-Oxid
Siliciumdioxid
MOS-FET
Gate-Oxid
Titandioxid
MOS-FET

Urheber
Pompl, Thomas

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 13:50 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

  • Pompl, Thomas

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