Hochschulschrift
Gasphasenabscheidung kristalliner Silizium-Schichten auf Keramiksubstraten mit Normaldruck-CVD
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783897222625
3897222620
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
97 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Berlin, Techn. Univ., Diss., 1999
- Schlagwort
-
Keramischer Werkstoff
Substrat
Silicium
APCVD-Verfahren
Epitaxie
Schichtwachstum
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Berlin
- (wer)
-
Logos-Verl.
- (wann)
-
1999
- Urheber
-
Ehrenwall, Birgit von
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:27 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Ehrenwall, Birgit von
- Logos-Verl.
Entstanden
- 1999
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