Hochschulschrift
Gasphasenabscheidung kristalliner Silizium-Schichten auf Keramiksubstraten mit Normaldruck-CVD
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783897222625
3897222620
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
97 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Berlin, Techn. Univ., Diss., 1999
- Schlagwort
-
Keramischer Werkstoff
Substrat
Silicium
APCVD-Verfahren
Epitaxie
Schichtwachstum
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.03.2025, 12:18 MEZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Ehrenwall, Birgit von
- Logos-Verl.
Entstanden
- 1999
Ähnliche Objekte (12)
Beschichtung von Kohlenstofffasern durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
Beschichtung von Kohlenstofffasern durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
Chemische Gasphasenabscheidung oxidischer Schichten
Hot-wire-Gasphasenabscheidung von nanokristallinem Silicium und Silicium-Germanium
Synthese neuartiger Single-Source-Precursoren für die Abscheidung piezoelektrischer Bleizirkonattitanat(PZT)-Schichten mittels chemischer Gasphasenabscheidung (CVD)
Synthese neuartiger Single-Source-Precursoren für die Abscheidung piezoelektrischer Bleizirkonattitanat(PZT)-Schichten mittels chemischer Gasphasenabscheidung (CVD)
Integriert-optischer Verstärker aus Selten-Erd-dotierten CVD-Schichten auf Silizium
Laserstrahlverfahren zur Fertigung kristalliner Silizium-Solarzellen
Untersuchungen zur Strukturierung von CVD-Al2O3-Schichten [CVD-AlO-Schichten]
Plasma-aktivierte Gasphasenabscheidung dünner harter Schichten aus einigen metallorganischen Verbindungen von Titan und Silizium
Plasmaunterstützte Gasphasenabscheidung (PE-CVD) von Multifunktionsschichten aus dem Precursorensystem Hexamethyldisiloxan/Sauerstoff
Silicium aus der Gasphase : Optimierung der Gasphasenabscheidung von Silicium aus Silan
Beschichtung von Kohlenstofffasern durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
Beschichtung von Kohlenstofffasern durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
Chemische Gasphasenabscheidung oxidischer Schichten
Hot-wire-Gasphasenabscheidung von nanokristallinem Silicium und Silicium-Germanium
Synthese neuartiger Single-Source-Precursoren für die Abscheidung piezoelektrischer Bleizirkonattitanat(PZT)-Schichten mittels chemischer Gasphasenabscheidung (CVD)
Synthese neuartiger Single-Source-Precursoren für die Abscheidung piezoelektrischer Bleizirkonattitanat(PZT)-Schichten mittels chemischer Gasphasenabscheidung (CVD)
Integriert-optischer Verstärker aus Selten-Erd-dotierten CVD-Schichten auf Silizium
Laserstrahlverfahren zur Fertigung kristalliner Silizium-Solarzellen
Untersuchungen zur Strukturierung von CVD-Al2O3-Schichten [CVD-AlO-Schichten]
Plasma-aktivierte Gasphasenabscheidung dünner harter Schichten aus einigen metallorganischen Verbindungen von Titan und Silizium
Plasmaunterstützte Gasphasenabscheidung (PE-CVD) von Multifunktionsschichten aus dem Precursorensystem Hexamethyldisiloxan/Sauerstoff
Silicium aus der Gasphase : Optimierung der Gasphasenabscheidung von Silicium aus Silan
Beschichtung von Kohlenstofffasern durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
Beschichtung von Kohlenstofffasern durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
Chemische Gasphasenabscheidung oxidischer Schichten
Hot-wire-Gasphasenabscheidung von nanokristallinem Silicium und Silicium-Germanium
Synthese neuartiger Single-Source-Precursoren für die Abscheidung piezoelektrischer Bleizirkonattitanat(PZT)-Schichten mittels chemischer Gasphasenabscheidung (CVD)
Synthese neuartiger Single-Source-Precursoren für die Abscheidung piezoelektrischer Bleizirkonattitanat(PZT)-Schichten mittels chemischer Gasphasenabscheidung (CVD)
Integriert-optischer Verstärker aus Selten-Erd-dotierten CVD-Schichten auf Silizium
Laserstrahlverfahren zur Fertigung kristalliner Silizium-Solarzellen
Untersuchungen zur Strukturierung von CVD-Al2O3-Schichten [CVD-AlO-Schichten]
Plasma-aktivierte Gasphasenabscheidung dünner harter Schichten aus einigen metallorganischen Verbindungen von Titan und Silizium
Plasmaunterstützte Gasphasenabscheidung (PE-CVD) von Multifunktionsschichten aus dem Precursorensystem Hexamethyldisiloxan/Sauerstoff