- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783183566051
3183566052
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
VIII, 135 S.
- Ausgabe
-
Als Ms. gedr.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Dresden, Techn. Univ., Diss.
- Erschienen in
-
Fortschrittberichte VDI / 5 / Verein Deutscher Ingenieure ; Nr. 566, Reihe 5
- Schlagwort
-
Zirkoniumdioxid
Dünne Schicht
MOCVD-Verfahren
Cerdioxid
Dünne Schicht
MOCVD-Verfahren
Hochtemperatursupraleiter
Zwischenschicht
Oxidschicht
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Düsseldorf
- (wer)
-
VDI-Verl.
- (wann)
-
1999
- Urheber
-
Krellmann, Mathias
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:42 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Krellmann, Mathias
- VDI-Verl.
Entstanden
- 1999
Ähnliche Objekte (12)
Synthese, Charakteristik und Sinterverhalten oxidischer Keramikpulver
Zeitaufgelöste STM-Untersuchungen der Eisensilizidbildung bei Gasphasenabscheidung auf Siliziumoberflächen
Mikrostruktur und Korrosionsverhalten von chemisch abgeschiedenen Nickel-Phosphor-Schichten
Chemische Gasphasenabscheidung und Charakterisierung von Tantalpentoxid-Schichten
Herstellung und Charakterisierung nicht-oxidischer refraktärer Schichten auf Multifilament-Kohlenstoffasern durch Chemische Gasphasenabscheidung für den Einsatz als Verstärkungsmaterialien in Hochleistungsverbundwerkstoffen
Herstellung nanostrukturierter funktionaler Schichten mittels plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung
Funktionale Schichten aus plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung für kristalline Siliziumsolarzellen
Ionenstrahlmischen an Metall-Keramik-Schichten
Metallorganisch chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) von oxidischen hochε [hoch-epsilon] Schichten
Aufbereitungstechnik, 2004.. Einfluss von chemischen Reaktionen, Maschinen und Verfahrensparametern auf die Produkteigenschaften
Oxidationsverhalten thermisch gespritzter MCrAlY-Schichten
GMR-Effekt in granularen metallischen Schichten für Sensoranwendungen
Synthese, Charakteristik und Sinterverhalten oxidischer Keramikpulver
Zeitaufgelöste STM-Untersuchungen der Eisensilizidbildung bei Gasphasenabscheidung auf Siliziumoberflächen
Mikrostruktur und Korrosionsverhalten von chemisch abgeschiedenen Nickel-Phosphor-Schichten
Chemische Gasphasenabscheidung und Charakterisierung von Tantalpentoxid-Schichten
Herstellung und Charakterisierung nicht-oxidischer refraktärer Schichten auf Multifilament-Kohlenstoffasern durch Chemische Gasphasenabscheidung für den Einsatz als Verstärkungsmaterialien in Hochleistungsverbundwerkstoffen
Herstellung nanostrukturierter funktionaler Schichten mittels plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung
Funktionale Schichten aus plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung für kristalline Siliziumsolarzellen
Ionenstrahlmischen an Metall-Keramik-Schichten
Metallorganisch chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) von oxidischen hochε [hoch-epsilon] Schichten
Aufbereitungstechnik, 2004.. Einfluss von chemischen Reaktionen, Maschinen und Verfahrensparametern auf die Produkteigenschaften
Oxidationsverhalten thermisch gespritzter MCrAlY-Schichten
GMR-Effekt in granularen metallischen Schichten für Sensoranwendungen
Synthese, Charakteristik und Sinterverhalten oxidischer Keramikpulver
Zeitaufgelöste STM-Untersuchungen der Eisensilizidbildung bei Gasphasenabscheidung auf Siliziumoberflächen
Mikrostruktur und Korrosionsverhalten von chemisch abgeschiedenen Nickel-Phosphor-Schichten
Chemische Gasphasenabscheidung und Charakterisierung von Tantalpentoxid-Schichten
Herstellung und Charakterisierung nicht-oxidischer refraktärer Schichten auf Multifilament-Kohlenstoffasern durch Chemische Gasphasenabscheidung für den Einsatz als Verstärkungsmaterialien in Hochleistungsverbundwerkstoffen
Herstellung nanostrukturierter funktionaler Schichten mittels plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung
Funktionale Schichten aus plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung für kristalline Siliziumsolarzellen
Ionenstrahlmischen an Metall-Keramik-Schichten
Metallorganisch chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) von oxidischen hochε [hoch-epsilon] Schichten
Aufbereitungstechnik, 2004.. Einfluss von chemischen Reaktionen, Maschinen und Verfahrensparametern auf die Produkteigenschaften
Oxidationsverhalten thermisch gespritzter MCrAlY-Schichten