Monografie

Study of the N yield in a microwave plasma for the deposition of CNH materials : measurement in the remote plasma, kinetic study and etching of a-C:H films by N atoms

Sprache
Englisch
Anmerkungen
Bochum, Univ., Diss., 2001
Identifier
963172050

Thema
Mikrowellenplasma ; Stickstoffatom ; Quadrupolmassenspektrometrie ; Boltzmann-Gleichung ; Plasmaätzen ; Hochschulschrift; Online-Publikation

Beteiligte Personen und Organisationen

URN
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
26.01.2023, 13:55 MEZ

Objekttyp


  • Monografie

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