Monografie
Study of the N yield in a microwave plasma for the deposition of CNH materials : measurement in the remote plasma, kinetic study and etching of a-C:H films by N atoms
- Sprache
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Englisch
- Anmerkungen
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Bochum, Univ., Diss., 2001
- Identifier
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963172050
- URN
- Rechteinformation
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Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
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26.01.2023, 13:55 MEZ
Objekttyp
- Monografie