Monografie
Enabling control of matter at the atomic level: atomic layer deposition and fluorocarbon-based atomic layer etching
- Sprache
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Englisch
- Identifier
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120306683X
- Thema
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Etching; Atomic layer deposition
- Beteiligte Personen und Organisationen
- URN
- Rechteinformation
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Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
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26.01.2023, 13:57 MEZ
Datenpartner
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Objekttyp
- Monografie
Beteiligte
- Dallorto, Stefano
- Rangelow, Ivo W.
- Schwartzberg, Adam
- Strehle, Steffen