Monografie

Enabling control of matter at the atomic level: atomic layer deposition and fluorocarbon-based atomic layer etching

Sprache
Englisch
Identifier
120306683X

Thema
Etching; Atomic layer deposition

Beteiligte Personen und Organisationen

URN
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
26.01.2023, 13:57 MEZ

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Objekttyp

  • Monografie

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