Enabling control of matter at the atomic level: atomic layer deposition and fluorocarbon-based atomic layer etching
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
Ilmenau, TU Ilmenau, Dissertation, 2019
- Klassifikation
-
Physik
- Schlagwort
-
Etching
Atomic layer deposition
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Ilmenau
- (wer)
-
TU Ilmenau
- (wann)
-
2020
- Urheber
- Beteiligte Personen und Organisationen
- URN
-
urn:nbn:de:gbv:ilm1-2019000480
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
14.08.2025, 11:01 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Beteiligte
- Dallorto, Stefano
- Rangelow, Ivo W.
- Schwartzberg, Adam
- Strehle, Steffen
- TU Ilmenau
Entstanden
- 2020
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