Hochschulschrift

Eigenschaften von CVD-Titanverbindungsschichten aus metallorganischen Verbindungen für die Mehrlagenmetallisierung höchst integrierter Bauelemente

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783926323804
3926323809
Dimensions
21 cm
Extent
184 S. in getr. Zählung
Language
Deutsch
Notes
Ill., graph. Darst.
Fälschlich als Bd. 2 der Schriftenreihe bezeichnet
Zugl.: München, Techn. Univ., Diss., 1994

Bibliographic citation
Wissenschaftliche Forschungsbeiträge Physik ; Bd. [3]

Keyword
VLSI
Metallisierungsschicht
Titannitrid
CVD-Verfahren
Titanamide
Ausgangsmaterial

Event
Veröffentlichung
(where)
Prien am Chiemsee
(who)
Intemann
(when)
1994
Creator
Intemann, Andreas S.

Table of contents
Rights
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
Last update
11.06.2025, 1:54 PM CEST

Data provider

This object is provided by:
Deutsche Nationalbibliothek. If you have any questions about the object, please contact the data provider.

Object type

  • Hochschulschrift

Associated

  • Intemann, Andreas S.
  • Intemann

Time of origin

  • 1994

Other Objects (12)