Hochschulschrift
Eigenschaften von CVD-Titanverbindungsschichten aus metallorganischen Verbindungen für die Mehrlagenmetallisierung höchst integrierter Bauelemente
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783926323804
3926323809
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
184 S. in getr. Zählung
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Fälschlich als Bd. 2 der Schriftenreihe bezeichnet
Zugl.: München, Techn. Univ., Diss., 1994
- Erschienen in
-
Wissenschaftliche Forschungsbeiträge Physik ; Bd. [3]
- Schlagwort
-
VLSI
Metallisierungsschicht
Titannitrid
CVD-Verfahren
Titanamide
Ausgangsmaterial
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Prien am Chiemsee
- (wer)
-
Intemann
- (wann)
-
1994
- Urheber
-
Intemann, Andreas S.
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:54 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Intemann, Andreas S.
- Intemann
Entstanden
- 1994
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