Hochschulschrift

Through silicon via field-effect transistor with Hafnia-based ferroelectrics and the doping of silicon by gallium implantation utilizing a focused ion beam system

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
21 cm
Umfang
XLIV, 122 Seiten
Sprache
Englisch
Anmerkungen
Illustrationen
Technische Universität Dresden, Dissertation, 2020

Klassifikation
Elektrotechnik, Elektronik

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Dresden
(wann)
[2020]
Urheber

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 13:34 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

Entstanden

  • [2020]

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