Requirements and challenges on an alternative indirect integration regime of low-k materials
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
In: AMC 2015 – Advanced Metallization Conference
- Schlagwort
-
Low-k-Dielektrikum
Opferschicht
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Chemnitz
- (wer)
-
Universitätsbibliothek Chemnitz
- (wann)
-
2016
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Chemnitz
- (wer)
-
Technische Universität Chemnitz
- (wann)
-
2016
- Urheber
-
Haase, Micha
Ecke, Ramona
Schulz, Stefan E.
- URN
-
urn:nbn:de:bsz:ch1-qucosa-207219
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
14.08.2025, 10:56 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Beteiligte
- Haase, Micha
- Ecke, Ramona
- Schulz, Stefan E.
- Universitätsbibliothek Chemnitz
- Technische Universität Chemnitz
Entstanden
- 2016
Ähnliche Objekte (12)
Electron microscopic studies of low-k inter-metal dielectrics
Investigation of multicomponent catalyst systems for type-selective growth of SWCNTs by CVD
3D-Wafer Level Packaging approaches for MEMS by using Cu-based High Aspect Ratio Through Silicon Vias
Herstellung ultraschmaler Leitbahnen mit herkömmlichen Prozessen und Untersuchungen zum Pore Sealing bei porösen low-k Dielektrika
Graphene-Based Conductor Materials: Assessment of the Electrical Conductivity
Atomic Layer Deposition and Microanalysis of Ultrathin Layers
Growth of carbon nanotubes on different support/catalyst systems for advanced interconnects in integrated circuits : Growth of carbon nanotubes on different support/catalystsystems for advanced interconnects in integrated circuits
Reduction of Copper Oxide by Formic Acid : an ab-initio study
Atomistische Simulationen der Diffusionsprozesse in SiGe Verbindungen
Ab-initio studies of reactions to functionalize carbon nanotubes
Untersuchungen von metallbesetzten Kohlenstoffnanoröhrchen für Sensoren und Interconnectsysteme mit ab-initio Methoden
Reaction Paths of Repair Fragments on Damaged Ultra-low-k Surfaces
Electron microscopic studies of low-k inter-metal dielectrics
Investigation of multicomponent catalyst systems for type-selective growth of SWCNTs by CVD
3D-Wafer Level Packaging approaches for MEMS by using Cu-based High Aspect Ratio Through Silicon Vias
Herstellung ultraschmaler Leitbahnen mit herkömmlichen Prozessen und Untersuchungen zum Pore Sealing bei porösen low-k Dielektrika
Graphene-Based Conductor Materials: Assessment of the Electrical Conductivity
Atomic Layer Deposition and Microanalysis of Ultrathin Layers
Growth of carbon nanotubes on different support/catalyst systems for advanced interconnects in integrated circuits : Growth of carbon nanotubes on different support/catalystsystems for advanced interconnects in integrated circuits
Reduction of Copper Oxide by Formic Acid : an ab-initio study
Atomistische Simulationen der Diffusionsprozesse in SiGe Verbindungen
Ab-initio studies of reactions to functionalize carbon nanotubes
Untersuchungen von metallbesetzten Kohlenstoffnanoröhrchen für Sensoren und Interconnectsysteme mit ab-initio Methoden
Reaction Paths of Repair Fragments on Damaged Ultra-low-k Surfaces
Electron microscopic studies of low-k inter-metal dielectrics
Investigation of multicomponent catalyst systems for type-selective growth of SWCNTs by CVD
3D-Wafer Level Packaging approaches for MEMS by using Cu-based High Aspect Ratio Through Silicon Vias
Herstellung ultraschmaler Leitbahnen mit herkömmlichen Prozessen und Untersuchungen zum Pore Sealing bei porösen low-k Dielektrika
Graphene-Based Conductor Materials: Assessment of the Electrical Conductivity
Atomic Layer Deposition and Microanalysis of Ultrathin Layers
Growth of carbon nanotubes on different support/catalyst systems for advanced interconnects in integrated circuits : Growth of carbon nanotubes on different support/catalystsystems for advanced interconnects in integrated circuits
Reduction of Copper Oxide by Formic Acid : an ab-initio study
Atomistische Simulationen der Diffusionsprozesse in SiGe Verbindungen
Ab-initio studies of reactions to functionalize carbon nanotubes
Untersuchungen von metallbesetzten Kohlenstoffnanoröhrchen für Sensoren und Interconnectsysteme mit ab-initio Methoden