Hochschulschrift

Device-relevant defect centers and minority carrier lifetime in 3C-, 4H- and 6H-SiC

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
Erlangen, Nürnberg, Univ., Diss., 2005

Schlagwort
Wide-gap-Halbleiter ; Siliciumcarbid ; DLTS ; Impedanzspektroskopie ; Lebensdauerspektroskopie ; Tiefe Störstelle ; Erbium ; Schwefel ; Photoionisatio

Urheber

URN
urn:nbn:de:bvb:29-opus-2654
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
25.03.2025, 13:47 MEZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

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