Hochschulschrift
Application of time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) for high performance depth profiling of semiconductor materials
- Location
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Dimensions
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21 cm
- Extent
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82 S.
- Language
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Englisch
- Notes
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Ill., graph. Darst.
Münster (Westfalen), Univ., Diss., 1997 (Nicht für den Austausch)
- Keyword
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Siliciumhalbleiter
Dotierung
Tiefenprofilmessung
Sekundärionen-Massenspektrometrie
Flugzeitmassenspektrometrie
- Creator
- Table of contents
- Rights
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- Last update
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11.03.2025, 11:42 AM CET
Data provider
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Object type
- Hochschulschrift