Detailed study of electromigration induced damage in Al and AlCuSi interconnects
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Extent
-
Online-Ressource
- Language
-
Englisch
- Notes
-
In: Materials reliability in microelectronics IV : symposium held April 5 - 8, 1994, San Francisco, California, U.S.A. ... / Ed.: Peter Børgesen ... - Pittsburgh, Pa. : Materials Research Soc., 1994. - (Materials Research Society symposium proceedings ; 338), S. 373-378
- Classification
-
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
- Keyword
-
Oberflächenschaden ; Elektromigration ; Studie
- Event
-
Veröffentlichung
- (where)
-
Saarbrücken
- (who)
-
Saarländische Universitäts- und Landesbibliothek
- (when)
-
2008
- Contributor
- URN
-
urn:nbn:de:bsz:291-scidok-17952
- Rights
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
25.03.0440, 1:54 PM CET
Data provider
Deutsche Nationalbibliothek. If you have any questions about the object, please contact the data provider.
Associated
- Möckl, U. E.
- Bauer, M.
- Kraft, Oliver
- Sanchez, J. E.
- Arzt, Eduard
- Saarländische Universitäts- und Landesbibliothek
Time of origin
- 2008