Hochschulschrift

Fatigue behavior of sub-micron silver and copper films

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
21 cm
Umfang
VII, 121 S.
Ausgabe
Als Ms. gedr.
Sprache
Englisch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Stuttgart, Univ., Diss., 2001

Erschienen in
Bericht / Max-Planck-Institut für Metallforschung ; Nr. 112

Schlagwort
Mikrosystemtechnik
Silber
Dünne Schicht
Siliciumdioxid
Materialermüdung
Size-Effekt
Kupfer
Dünne Schicht
Polyimide
Materialermüdung
Werkstoffschädigung
Size-Effekt

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Stuttgart
(wer)
Max-Planck-Inst. für Metallforschung
(wann)
2001
Beteiligte Personen und Organisationen
Schwaiger, Ruth

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 13:57 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

  • Schwaiger, Ruth
  • Max-Planck-Inst. für Metallforschung

Entstanden

  • 2001

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