Retention Characteristics of Hf₀.₅Zr₀.₅O₂-based Ferroelectric Tunnel Junctions
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
In: 2019 IEEE 11th International Memory Workshop, Herausgeber: Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), Erscheinungsort: New York, NY, Verlag: IEEE, Erscheinungsjahr: 2019
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Dresden
- (wer)
-
Technische Universität Dresden
- (wann)
-
2022
- Urheber
- URN
-
urn:nbn:de:bsz:14-qucosa2-775808
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
15.08.2025, 07:36 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
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Beteiligte
- Max, Benjamin
- Mikolajick, Thomas
- Hoffmann, Michael
- Slesazeck, Stefan
- Technische Universität Dresden
Entstanden
- 2022
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