Interplay between ferroelectric and resistive switching in doped crystalline HfO₂

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch

Erschienen in
In: Journal of Applied Physics, Erscheinungsjahr: 2018, Jahrgang: 123, Heft: 13, Seiten: 134102-1-134102-9, E-ISSN: 1089-7550

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Dresden
(wer)
Technische Universität Dresden
(wann)
2022
Urheber
Max, Benjamin
Pešić, Milan
Slesazeck, Stefan
Mikolajick, Thomas

URN
urn:nbn:de:bsz:14-qucosa2-804156
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
25.03.2025, 13:44 MEZ

Datenpartner

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Beteiligte

  • Max, Benjamin
  • Pešić, Milan
  • Slesazeck, Stefan
  • Mikolajick, Thomas
  • Technische Universität Dresden

Entstanden

  • 2022

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