- Location
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Extent
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Online-Ressource
- Language
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Englisch
- Bibliographic citation
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In: Murphy, J.D.; Al-Amin, M.; Bothe, K.; Olmo, M.; Voronkov, V.V. et al.: The effect of oxide precipitates on minority carrier lifetime in n-type silicon. In: Journal of Applied Physics 118 (2015), Nr. 21, 215706. DOI: https://doi.org/10.1063/1.4936852
- Event
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Veröffentlichung
- (where)
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Hannover
- (who)
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Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover
- (when)
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2015
- Event
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Veröffentlichung
- (where)
-
Hannover
- (who)
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Technische Informationsbibliothek (TIB)
- (when)
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2015
- Creator
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Murphy, J.D.
Al-Amin, M.
Bothe, K.
Olmo, M.
Voronkov, V.V.
Falster, R.J.
- DOI
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10.15488/4504
- URN
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urn:nbn:de:101:1-2020081207380350169327
- Rights
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Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
14.08.2025, 10:47 AM CEST
Data provider
Deutsche Nationalbibliothek. If you have any questions about the object, please contact the data provider.
Associated
- Murphy, J.D.
- Al-Amin, M.
- Bothe, K.
- Olmo, M.
- Voronkov, V.V.
- Falster, R.J.
- Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover
- Technische Informationsbibliothek (TIB)
Time of origin
- 2015