Hochschulschrift
Epitaxial growth of Si and 3C-SiC by chemical vapor deposition
- Location
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Dimensions
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30 cm
- Extent
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VII, 96 Bl.
- Language
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Englisch
- Notes
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Ill., graph. Darst.
München, Techn. Univ., Diss., 2002 (Nicht für den Austausch)
- Keyword
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Silicium
Kristallfläche
Siliciumcarbid
CVD-Verfahren
- Creator
- Table of contents
- Rights
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- Last update
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11.06.2025, 2:25 PM CEST
Data provider
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Object type
- Hochschulschrift