Monografie
Mesoscopic simulation of photoresist processing in optical lithography = Mesoskopische Simulation der Photolackbearbeitung in der optischen Lithographie
- Sprache
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Englisch
- Anmerkungen
-
Erlangen, Nürnberg, Univ., Diss., 2007
- Identifier
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988688654
Thema
Computersimulation ; Direkte numerische Simulation ; Diskrete Simulation ; Monte-Carlo-Simulation ; Simulation ; Photoresist ; Lithographie
Beteiligte Personen und Organisationen
- URN
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
26.01.2023, 13:57 MEZ
Objekttyp
- Monografie
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