Structural, optical, and mechanical properties of silicon nitride films deposited by inductively coupled plasma enhanced chemical vapor deposition

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
In:

Abacıoğlu, E., Fernández Estévez, J. L., & Stöhr, A. (2022). Structural, optical, and mechanical properties of silicon nitride films deposited by inductively coupled plasma enhanced chemical vapor deposition. In: Advanced Properties and Processes in Optoelectronic Materials and Systems (APROPOS 18): book of abstracts. Center for Physical Sciences and Technology, Vilnius, Lithuania, p. 79. ISBN 978-609-96355-0-7
https://www.ftmc.lt/uploads/APROPOS18/APROPOS18_abstract_book_ISBN%20978-609-96355-0-7.pdf


Klassifikation
Elektrotechnik, Elektronik

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Duisburg, Essen
(wer)
Universität Duisburg-Essen
(wann)
2022
Urheber
Abacıoğlu, Ezgi
Fernández Estévez, José Luis
Stöhr, Andreas

DOI
10.17185/duepublico/78077
URN
urn:nbn:de:hbz:465-20230403-102820-7
Rechteinformation
Open Access unbekannt; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
14.08.2025, 10:48 MESZ

Datenpartner

Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.

Beteiligte

  • Abacıoğlu, Ezgi
  • Fernández Estévez, José Luis
  • Stöhr, Andreas
  • Universität Duisburg-Essen

Entstanden

  • 2022

Ähnliche Objekte (12)