Comparison of oxidation in uni-directionally and randomly oriented Cu films for low temperature Cu-to-Cu direct bonding
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISSN
-
2045-2322
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
online resource.
- Erschienen in
-
Comparison of oxidation in uni-directionally and randomly oriented Cu films for low temperature Cu-to-Cu direct bonding ; volume:8 ; number:1 ; day:13 ; month:7 ; year:2018 ; pages:1-7 ; date:12.2018
Scientific reports ; 8, Heft 1 (13.7.2018), 1-7, 12.2018
- Klassifikation
-
Öffentliche Darbietungen, Film, Rundfunk
- Urheber
-
Tseng, Chih-Han
- Beteiligte Personen und Organisationen
-
Tu, K. N.
Chen, Chih
SpringerLink (Online service)
- DOI
-
10.1038/s41598-018-28812-0
- URN
-
urn:nbn:de:101:1-2018091322594716585657
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
15.08.2025, 07:35 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Beteiligte
- Tseng, Chih-Han
- Tu, K. N.
- Chen, Chih
- SpringerLink (Online service)
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