Hochschulschrift

Zwischenschichteinfluss auf das Rauschverhalten epitaxialer GaAs-Schottky-Gate Feldeffekttransistoren

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
21 cm
Umfang
VII, 179 S.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1982

Schlagwort
MESFET
Feldeffekttransistor
Galliumarsenid
Rauschen
Feldeffekttransistor
Galliumarsenid
Rauschen

Urheber
Ahmed, Mohamed Kamel

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Letzte Aktualisierung
11.03.2025, 12:05 MEZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

  • Ahmed, Mohamed Kamel

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