Interference lithography with extreme ultraviolet light

Weitere Titel
Interferenzlithographie mit extrem ultravioletter Strahlung
Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
RWTH Aachen University und University of Southampton, Dissertation, 2016

Klassifikation
Physik

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Aachen
(wer)
Universitätsbibliothek der RWTH Aachen
(wann)
2016
Urheber
Beteiligte Personen und Organisationen
Juschkin, Larissa
Taubner, Thomas Günter

URN
urn:nbn:de:hbz:82-rwth-2017-028144
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
25.03.2025, 13:41 MEZ

Datenpartner

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Beteiligte

Entstanden

  • 2016

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