Hochschulschrift
Vergleich zweier chemischer Gasphasenabscheidungsprozesse mit den Precursoren [H2AlOtBu]2 und [Cl2AlH.2nmp]
- Alternative title
-
Comparison of two chemical vapour deposition process with the precursors [H2AlOtBu]2 and [Cl2AlH2.nmp]
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Extent
-
Online-Ressource
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
Saarbrücken, Universität des Saarlandes, Diss., 2012
- Classification
-
Technische Chemie
- Keyword
-
Ausgangsmaterial
Gasphase
Aluminiumoxide
Substrat
Polfigur
CVD-Verfahren
Gesteinsglas
Plasma
Maßstabübertragung
Beschichtung ; CVD-Verfahren ; Aluminium ; Biokompatibilität ; Aluminiumhydridderivate ; Aluminiumoxide
- Event
-
Veröffentlichung
- (where)
-
Saarbrücken
- (who)
-
Saarländische Universitäts- und Landesbibliothek
- (when)
-
2012
- Creator
-
Dufloux, Cecile
- Contributor
- URN
-
urn:nbn:de:bsz:291-scidok-50282
- Rights
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
26.09.2025, 9:44 AM CEST
Data provider
This object is provided by:
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
- Dufloux, Cecile
- Veith, Michael
- Saarländische Universitäts- und Landesbibliothek
Time of origin
- 2012
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