Hochschulschrift
Vergleich zweier chemischer Gasphasenabscheidungsprozesse mit den Precursoren [H2AlOtBu]2 und [Cl2AlH.2nmp]
- Weitere Titel
-
Comparison of two chemical vapour deposition process with the precursors [H2AlOtBu]2 and [Cl2AlH2.nmp]
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Saarbrücken, Universität des Saarlandes, Diss., 2012
- Klassifikation
-
Technische Chemie
- Schlagwort
-
Ausgangsmaterial
Gasphase
Aluminiumoxide
Substrat
Polfigur
CVD-Verfahren
Gesteinsglas
Plasma
Maßstabübertragung
Beschichtung ; CVD-Verfahren ; Aluminium ; Biokompatibilität ; Aluminiumhydridderivate ; Aluminiumoxide
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Saarbrücken
- (wer)
-
Saarländische Universitäts- und Landesbibliothek
- (wann)
-
2012
- Urheber
-
Dufloux, Cecile
- Beteiligte Personen und Organisationen
- URN
-
urn:nbn:de:bsz:291-scidok-50282
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
14.08.2025, 10:44 MESZ
Datenpartner
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Dufloux, Cecile
- Veith, Michael
- Saarländische Universitäts- und Landesbibliothek
Entstanden
- 2012
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