Gate dielectrics and MOS ULSIs : principles, technologies and applications

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783540631828
3540631828
Dimensions
24 cm
Extent
XIV, 352 S.
Language
Englisch
Notes
graph. Darst.
Literaturverz. S. 325 - 341

Bibliographic citation
Springer series in electronics and photonics ; Vol. 34

Keyword
MOS-FET
ULSI
Dielektrische Schicht
SOI-Technik

Event
Veröffentlichung
(where)
Berlin, Heidelberg, New York, Barcelona, Budapest, Hong Kong, London, Milan, Paris, Santa Clara, Singapore, Tokyo
(who)
Springer
(when)
1997
Creator
Hori, Takashi

Table of contents
Rights
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Last update
11.03.2025, 12:34 PM CET

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  • Hori, Takashi
  • Springer

Time of origin

  • 1997

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