Pyroelectricity of silicon-doped hafnium oxide thin films

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Extent
Online-Ressource
Language
Englisch

Bibliographic citation
In: Applied physics letters, Erscheinungsjahr: 2018, Jahrgang: 112, Heft: 14, Seiten: 142901-1-142901-5, E-ISSN: 1077-3118

Event
Veröffentlichung
(where)
Dresden
(who)
Technische Universität Dresden
(when)
2022
Creator
Jachalke, Sven
Schenk, Tony
Park, Min Hyuk
Schroeder, Uwe
Mikolajick, Thomas
Stöcker, Hartmut
Mehner, Erik
Meyer, Dirk C.

URN
urn:nbn:de:bsz:14-qucosa2-757517
Rights
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
25.03.2025, 1:47 PM CET

Data provider

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  • Jachalke, Sven
  • Schenk, Tony
  • Park, Min Hyuk
  • Schroeder, Uwe
  • Mikolajick, Thomas
  • Stöcker, Hartmut
  • Mehner, Erik
  • Meyer, Dirk C.
  • Technische Universität Dresden

Time of origin

  • 2022

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