Pyroelectricity of silicon-doped hafnium oxide thin films

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Extent
Online-Ressource
Language
Englisch

Bibliographic citation
In: Applied physics letters, Erscheinungsjahr: 2018, Jahrgang: 112, Heft: 14, Seiten: 142901-1-142901-5, E-ISSN: 1077-3118

Event
Veröffentlichung
(where)
Dresden
(who)
Technische Universität Dresden
(when)
2022
Creator

URN
urn:nbn:de:bsz:14-qucosa2-757517
Rights
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
15.08.2024, 12:29 AM CEST

Data provider

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Time of origin

  • 2022

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