Pyroelectricity of silicon-doped hafnium oxide thin films

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch

Erschienen in
In: Applied physics letters, Erscheinungsjahr: 2018, Jahrgang: 112, Heft: 14, Seiten: 142901-1-142901-5, E-ISSN: 1077-3118

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Dresden
(wer)
Technische Universität Dresden
(wann)
2022
Urheber

URN
urn:nbn:de:bsz:14-qucosa2-757517
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
15.08.2025, 07:37 MESZ

Datenpartner

Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.

Beteiligte

Entstanden

  • 2022

Ähnliche Objekte (12)