Pyroelectricity of silicon-doped hafnium oxide thin films

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch

Erschienen in
In: Applied physics letters, Erscheinungsjahr: 2018, Jahrgang: 112, Heft: 14, Seiten: 142901-1-142901-5, E-ISSN: 1077-3118

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Dresden
(wer)
Technische Universität Dresden
(wann)
2022
Urheber
Jachalke, Sven
Schenk, Tony
Park, Min Hyuk
Schroeder, Uwe
Mikolajick, Thomas
Stöcker, Hartmut
Mehner, Erik
Meyer, Dirk C.

URN
urn:nbn:de:bsz:14-qucosa2-757517
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
25.03.2025, 13:47 MEZ

Datenpartner

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Beteiligte

  • Jachalke, Sven
  • Schenk, Tony
  • Park, Min Hyuk
  • Schroeder, Uwe
  • Mikolajick, Thomas
  • Stöcker, Hartmut
  • Mehner, Erik
  • Meyer, Dirk C.
  • Technische Universität Dresden

Entstanden

  • 2022

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