- Location
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Extent
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Online-Ressource
- Language
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Englisch
- Bibliographic citation
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High‐Temperature Annealing of Si‐Doped AlGaN ; day:31 ; month:01 ; year:2024 ; extent:9
Physica status solidi / A. A, Applications and materials science ; (31.01.2024) (gesamt 9)
- Creator
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Zainal, Norzaini
Hagedorn, Sylvia
Netzel, Carsten
Kolbe, Tim
Weyers, Markus
- DOI
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10.1002/pssa.202300897
- URN
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urn:nbn:de:101:1-2024020114310772712789
- Rights
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Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
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15.08.2025, 7:22 AM CEST
Data provider
Deutsche Nationalbibliothek. If you have any questions about the object, please contact the data provider.
Associated
- Zainal, Norzaini
- Hagedorn, Sylvia
- Netzel, Carsten
- Kolbe, Tim
- Weyers, Markus