Surface Morphology Transformation Under High-Temperature Annealing of Ge Layers Deposited on Si(100)
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISSN
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1556-276X
- Umfang
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Online-Ressource
- Sprache
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Englisch
- Anmerkungen
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online resource.
- Erschienen in
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Surface Morphology Transformation Under High-Temperature Annealing of Ge Layers Deposited on Si(100) ; volume:11 ; number:1 ; day:19 ; month:8 ; year:2016 ; pages:1-8 ; date:12.2016
Nanoscale research letters ; 11, Heft 1 (19.8.2016), 1-8, 12.2016
- Urheber
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Shklyaev, A. A.
- Beteiligte Personen und Organisationen
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Latyshev, A. V.
SpringerLink (Online service)
- DOI
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10.1186/s11671-016-1588-1
- URN
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urn:nbn:de:1111-2016091625535
- Rechteinformation
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Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
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14.08.2025, 10:52 MESZ
Datenpartner
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Beteiligte
- Shklyaev, A. A.
- Latyshev, A. V.
- SpringerLink (Online service)