High‐Temperature Annealing of AlGaN

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Extent
Online-Ressource
Language
Englisch

Bibliographic citation
High‐Temperature Annealing of AlGaN ; volume:217 ; number:23 ; year:2020 ; extent:8
Physica status solidi / A. A, Applications and materials science ; 217, Heft 23 (2020) (gesamt 8)

Creator
Hagedorn, Sylvia
Khan, Taimoor
Netzel, Carsten
Hartmann, Carsten
Walde, Sebastian
Weyers, Markus

DOI
10.1002/pssa.202000473
URN
urn:nbn:de:101:1-2022062407115792546956
Rights
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
15.08.2025, 7:21 AM CEST

Data provider

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  • Hagedorn, Sylvia
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  • Hartmann, Carsten
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