Hochschulschrift
Dosisabhängigkeit der Amorphisierung von Silizium durch Ionenimplantation
- Location
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Dimensions
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4°
- Extent
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6 Bl., 149 S.
- Language
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Deutsch
- Notes
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München, Techn. Univ., Fak. f. Maschinenwesen u. Elektrotechnik, Diss. 1973.
- Creator
- Table of contents
- Rights
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- Last update
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11.06.2025, 2:25 PM CEST
Data provider
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Object type
- Hochschulschrift