Hochschulschrift
Entwicklung eines Qualitätsanalysesystems für high-k Dielektrika in MOS-Bauelementen
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
X, 153 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
München, Techn. Univ., Diss., 2005
- Klassifikation
-
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
- Schlagwort
-
MOS-Diode
Gate-Oxid
Aluminiumoxide
Praseodymoxide
High-k-Dielektrikum
MOS-FET
Gate-Oxid
Aluminiumoxide
Praseodymoxide
High-k-Dielektrikum
- Urheber
-
Oswald, Michael
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:43 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Oswald, Michael
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