Hochschulschrift

Entwicklung eines Qualitätsanalysesystems für high-k Dielektrika in MOS-Bauelementen

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Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Dimensions
21 cm
Extent
X, 153 S.
Language
Deutsch
Notes
Ill., graph. Darst.
München, Techn. Univ., Diss., 2005

Classification
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
Keyword
MOS-Diode
Gate-Oxid
Aluminiumoxide
Praseodymoxide
High-k-Dielektrikum
MOS-FET
Gate-Oxid
Aluminiumoxide
Praseodymoxide
High-k-Dielektrikum

Creator
Oswald, Michael

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Last update
11.06.2025, 1:43 PM CEST

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Object type

  • Hochschulschrift

Associated

  • Oswald, Michael

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